Questão 18
ITA 2010
[ITA 2010 - 1 FASE]
Em um processo de eletrodeposição de níquel, empregou-se um eletrodo ativo de níquel e um eletrodo de cobre, ambos parcialmente imersos em uma solução aquosa contendo sais de níquel (cloreto e sulfato) dissolvidos, sendo este eletrólito tamponado com ácido bórico. No decorrer do processo, conduzido à temperatura de 55°C e pressão de 1 atm, níquel metálico depositou-se sobre a superfície do eletrodo de cobre. Considere que as seguintes afirmações sejam feitas:
I. Ocorre formação de gás cloro no eletrodo de cobre.
II. A concentração de íons cobre aumenta na solução eletrolítica.
III. Ocorre formação de hidrogênio gasoso no eletrodo de níquel.
IV. O ácido bórico promove a precipitação de níquel na forma de produto insolúvel no meio aquoso.
Com relação ao processo de eletrodeposição acima descrito, assinale a opção CORRETA.
Gabarito:
Todas as afirmações são falsas.
Resolução:
anodo: Ni(s) → Ni2+ (aq) + 2e–
catodo: Ni2+ + 2e– → Ni
No processo de eletrodeposição do níquel, ocorrem as semirreações acima, podemos concluir que não ocorre a formação de gás cloro e nem de hidrogênio gasoso.
Gabarito E.